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堅(jiān)膜烘箱，真空?qǐng)?jiān)膜烤箱用于半導(dǎo)體制造中半導(dǎo)體襯底片、硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料顯影后堅(jiān)膜烘烤；也適用于涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤以及電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。
產(chǎn)品型號(hào)：廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家更新時(shí)間：2025-09-16訪(fǎng) 問(wèn) 量：2075
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聯(lián)系電話(huà)：021-31434441
堅(jiān)膜烘箱，真空?qǐng)?jiān)膜烤箱的用途：
堅(jiān)膜烘箱用于半導(dǎo)體制造中半導(dǎo)體襯底片、硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料顯影后堅(jiān)膜烘烤；也適用于涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤以及電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門(mén)。
1、*蒸發(fā)掉光刻膠里面的溶劑（以免在污染后續(xù)的離子注入環(huán)境，例如DNQ酚醛樹(shù)脂光刻膠中的氮會(huì)引起光刻膠局部爆裂）；
2、以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力；
3、進(jìn)一步增強(qiáng)光刻膠與硅片表面之間的黏附性；
4、進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)。
堅(jiān)膜烘箱，真空?qǐng)?jiān)膜烤箱主要參數(shù)：
潔凈度：百級(jí)；
電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率：2000W
溫度范圍：RT+10℃-250℃
溫度分辨率：0.1℃
溫度波動(dòng)度：±0.5℃
達(dá)到真空度：133Pa（可選擇熱風(fēng)循環(huán)烤箱）
工作室尺寸（mm）：450*450*450
擱板層數(shù)：2層
設(shè)備采用先進(jìn)成熟的設(shè)計(jì)思想，制造技術(shù)。
設(shè)備在具有優(yōu)良的品質(zhì)，即可靠性要高，使用壽命長(zhǎng)。
設(shè)備具有良好的操作性，方便的維修性，可靠的安全性。
使用注意事項(xiàng)：
1、烘烤不足，會(huì)減弱光刻膠的強(qiáng)度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻擋能力）；降低針孔填充能力；降低與基底的黏附能力。
2、烘烤過(guò)度，引起光刻膠的流動(dòng)，使圖形精度降低，分辨率變差。
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