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  • 表面改性疏水處理設備
    表面改性疏水處理設備用蒸汽涂覆(Vapor Prime)將 疏水劑均勻覆蓋在產(chǎn)品表面;
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  • JS-HMDS30實驗室HMDS專用烘箱  小型HMDS處理烤箱
    實驗室HMDS專用烘箱 小型HMDS處理烤箱解決光刻膠附著力不足問題,同時增強光刻圖形的完整性.
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  • JS-HMDS1000大型HMDS真空烘箱,4門HMDS真空烤箱
    大型HMDS真空烘箱,4門HMDS真空烤箱 是半導體光刻工藝中的關鍵設備,主要用于基片表面預處理,通過六甲基二硅氮烷(HMDS)涂布增強光刻膠與基片的黏附性。
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  • JS硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米抗粘設備
    硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米抗粘設備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實現(xiàn)結構較好的轉移,復制.
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  • JS抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機
    抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機通過精確控制烘箱溫度(100-200℃)、處理時長及保持時間等參數(shù),使氮烷(HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三氯硅烷)沉積在襯底表面,生成疏水性的保護層,,將親水基片轉化為疏水性。該過程有效增大處理后的基片接觸角,減少光刻膠使用量約30%,同時提升膠層與基片的黏附強度?。
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